Efeito da perfuração da membrana do seio maxilar sobre a integração de implantes dentários: estudo histomorfométrico em coelhos

Abstract

Pequenas perfurações no decorrer de procedimentos de elevação da membrana sinusal não necessitam de tratamento ou são tratadas com a colocação de membranas de colágeno, sutura ou colas de fibrina ou cianoacrilato. No entanto, a conduta atual frente a grandes perfurações é abortar o procedimento em função do obscuro prognóstico desta condição. O objetivo foi avaliar a influência da perfuração da membrana sinusal na integração de implantes dentários instalados em seio maxilar de coelhos após a elevação da membrana sinusal ou por meio da perfuração da mesma por meio da ELCOI e a AON. Vinte implantes dentários foram instalados em seio maxilar após a elevação da membrana sinusal ou de sua perfuração em 3mm. A eutanásia foi realizada aos 7 e 40 dias. O teste estatístico empregado foi Kruskal-Wallis e como pós-teste para os valores que mostraram significância estatística o método de Dunn. Na comparação da ELCOI intragrupo nos diferentes períodos, os valores foram estatisticamente significante para MI e MP (p < 0,05).Para a AON, no período de 40 dias os valores de para MP e MI (p < 0,05) assim como na comparação dentro do mesmo grupo em períodos diferentes, os valores de AON para MI (p < 0,05), mas o mesmo não foi observado para MP.Foi possível concluir que a perfuração da membrana interferiu no processo de integração óssea dos implantes, no entanto, não comprometeu de forma a contraindicar o procedimento.